光刻机国产成功突破升级完成，ASML仍焦虑

光刻机国产成功突破：升级完成，asml仍焦虑。

华为是中国最顶尖的技术公司之一，无论是智能手机，还是5 g通讯，还是软件系统，都是世界领先的存在。但美国对其常规晶片的供给，以及对其所能做的反击，则是对国内目前的半导体制程技术状况的一个重要反应。

卡脖子"的芯片固然"疼"，不过好在，经此一役，国产厂商已经完全理解了自主研发的意义，“造不如购，购不如聘”这种呼声，在全国范围内已经很少出现了。而国内制造芯片的声音，更是此起彼伏。

取得一致意见。

为打破欧美"芯"的包围，任正非访问九所大学及中科院，并在多方面取得一致意见：先从光刻机开始，再到芯片的核心生产装备，然后再做大做强。

目前全球最大的光刻机厂商有四个，荷兰 asml，日本的尼康，佳能，以及中国上海微电子。但是，目前仅有 asml公司有能力制造高品质的微影仪器。

台积电创办人张忠谋曾经指出：中国的光刻技术，起码比 asml差了五个世代；而在晶片的制造上，则比台积电低了三代。另外，张忠谋指出，极紫外光刻是台积电最大的强项。

的确，中国在芯片生产上并不缺少技术，也不缺少人力，其原因就在于老美禁止 asml从美国进口更高级的光刻机。

完成国产胶印升级！

好在美国对光刻技术的严格控制，刺激了国产芯片公司的热情，这也给了国产光刻机的发展带来了很大的帮助，在未来的几年里，中国将会有更多的好消息传来。

首先是清华攻克了 euv工艺，然后是上海微电子公司90 nm的 euv光刻设备，对28 nm的光刻机进行了更新换代。

最近，上海半导体公司又发布了一个好消息，28 nm的深uv光刻设备已经通过了相关的工艺验证与检测，有望于今年实现大规模商业应用。根据专业人士的分析，该刻机在**精度上和 asml公司的 duv光刻机相当。

值得一提的是，英特尔在深紫外光刻制程上，已成功制造出10奈米制程的晶片，台积电更是在数个先进制程的**下，首次应用此装置，成功制造出7奈米制程的晶片。这也就是上海微电子公司28 nm光刻的优势，使我们有可能一步完成28 nm制程向7 nm制程的跨越。

并不只有 asml闹得"沸沸扬扬"。

根据数据显示，近两年来，上海微电子在国产光刻机的市场份额一直在快速增长，现在已经达到了80%，而且这个数字还在不断攀升中。

asml作为世界第一大光刻机公司，未来某一天可能要在国内举行多个展览，这个消息可谓"晴天霹雳"。可是，很抱歉，你们在我们最困难的时刻无法完成任务，如今我们有你们了，你们要操心也不要怨我们。

的确，与 asml相比，美国的技术部门更加活跃。

我们已经做到了光刻的自动化， asml损失的只是光刻业务的市场占有率而已。然而，一旦我国完成了芯片的国产化，美国就会丧失其在世界上的优势。

中国是世界上最大的消费者，最近几年平均进口总额已达三千亿美元，占据了世界30%的份额，而外国的高端晶片厂商也已遍布世界各地。我们多花钱引进一些芯片和装备，让外国公司发展起来，多赚钱，多赚钱，多赢。

但是，不安的老美必须要有一套完整的"芯片断供"方案，要想彻底改变这种均衡，最终必须要依靠我们自己的能力，为美国企业提供装备，而没有人要。孰重孰轻，一眼可见。

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