美国给三星 SK海力士 台积电开“便道”,意在打压中国芯

2023-10-24 19:56:56 字數 2368 閱讀 3337

中国在芯片制造领域的发展已经成为全球瞩目的焦点。然而,美国不断加强对中国芯的打压,意在限制中国在逻辑芯片、dram和nand闪存方面的制造能力。去年10月,美国首次出台了严厉的禁令,禁止中国制造14nm逻辑芯片、18nmdram和128层nand闪存。然而,美国的控制力失去了,因为全球首家量产了232层nand闪存,华为成功推出了麒麟9000s芯片。一年后的今年10月,美国再次升级了对中国芯的禁令,这次主要集中在禁售众多ai芯片以及拉黑中国芯片企业,还包括封锁半导体设备。尤其是在光刻机方面,dco值(depthofcriticaloverseas)由去年的小于1.5调整为小于2.4。例如,浸润式光刻机nxt:1980di的dco值为1.6,原本能够销售,但现在也无法销售了。浸润式光刻机是经过多次**后,能够支持最小7nm芯片制造的设备,美国之所以全面禁止浸润式光刻机的使用,正是因为害怕中国在芯片制造上取得突破。然而,美国对三星sk海力士台积电三家公司做了例外处理,这三家企业在中国大陆建立的工厂不受禁令限制,可以自由购买高端设备。其中,三星sk海力士可以无限期获得豁免,而台积电暂时只有一年的豁免期限,即到2023年10月之前。此后的去向尚不确定,可能会继续获得豁免,也可能会被限制。那么,美国为什么对这三家企业豁免呢?原因很简单,他们希望这三家企业充当美国在中国大陆境内的打手,共同打压中国芯。三星sk海力士在中国主要生产dram内存和nand闪存,并且产能非常高。目前中国本土企业的dram和nand生产受到了冲击,高端芯片的生产困难重重,产能和设备受限,发展也受到了限制。而三星sk海力士可以自由扩产,随意购买设备,加快发展,自然会挤压中国本土企业的市场份额,达到美国打压中国芯的目的。同样的情况也适用于芯片制造领域。由于美国封锁了浸润式光刻机和euv光刻机的使用,中国在没有这些设备的情况下,14nm工艺可能成为一道难以逾越的坎。与此同时,台积电可以无限制扩产,自由购买设备,提高工艺水平,同样也会挤压中国本土芯片制造企业的生存空间,达到美国的目的。

为了突破美国的束缚,摆脱美国的制约,中国必须走一条独立自主的道路,实现芯片**链的自主化。依赖国外的设备将使中国在芯片领域受到各种限制和掌控,从而让美国牵制中国的发展。要实现自主化,中国必须加大自主研发和创新的力度,培养自己的芯片设计和制造能力。同时,加强国内企业之间的合作,建立起完整的**链生态系统,从芯片设计、制造到封测等环节,形成自给自足的能力。此外,还需要加大对人才的培养和引进,建立更加完善的科研机构和创新平台,吸引顶尖的人才和团队加入到芯片领域的研发中。此外,**也应该加大对芯片产业的支持力度,在资金、政策和市场等方面给予更多的扶持和保护。只有通过这些努力,中国才能够真正实现芯片自主化,不再受制于人。

当前,中国芯片产业正面临着前所未有的挑战和压力,但同时也蕴藏着巨大的机遇和发展空间。我们要清醒认识到,在现有国际格局下,特别是美国的制约下,要想突破卡脖子的困局,摆脱对中国的打压,我们必须坚持自主创新和自我发展。通过加强研发力量、促进产业协同、培养人才和政策支持的综合手段,不断提升中国芯片产业的核心竞争力和抗风险能力。同时,我们也要从历史经验中吸取教训,不再依赖国外设备和技术,形成自己的核心技术和产业链,建立起完整的芯片生态系统。只有这样,我们才能真正实现在芯片领域的自主发展,为中国经济的持续发展和***做出更大的贡献。

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