北大立功,国产光刻技术迎来突破,触动了ASML的敏感神经?

2023-11-19 16:21:23 字數 3011 閱讀 2103

北大立功,国产光刻技术迎来突破,触动了asml的敏感神经?

euv光刻机,作为产业中的一颗宝石,它融合了制造高档晶片的"命脉",一台就要一亿两千万美金,不但造价高昂,结构也十分复杂,全世界也就荷兰asml一家能够制造出来。

数十年以前,美国与41个其它国家签订了"所有先进科技装备不得进入中国市场"的"瓦森纳协定",因此,从2023年问世后,euv光刻机就再也没有进入过中国的市场。尽管中国公司asml于2017购买了euv光刻机,并且支付了订金,但是由于美国方面的干涉,最终未能成功。

中国**为打破美国对华技术的封锁,决心进军高端光刻领域,上海微电子所也曾经派遣研究小组前往荷兰asml公司"取经"。但是却遭到了嘲笑,asml公司的一位工程师表示,就算将这张设计图带回中国,他们也造不出来。

而更令人沮丧的是,在「五次数博会」上,吴汉明院士更是当众宣布:「euv光刻机,是全世界的智慧,它包含十万个精密元件,全世界三十多个国家,超过五百万家公司,单靠我们自己,实在太困难了。

在这样的科技障碍面前,国内的高端半导体是否真的要放弃极紫外光刻?显然不是。就像比亚迪的创始人王传福曾经说过的那样,无论多么先进的装备,都是人工制造而非上帝创造出来的。

为此,我们提出“光学透镜”、“光源系统”和“双面阵”三大模块,以满足国内需求。只有在这三项关键技术上取得了突破,其它euv光刻工艺的改进,才能与自定义的工艺逻辑相匹配。

有了清晰的想法,可以说,在中国,可以说是"兵分三路",一院集中了所有研究资源,以最快的速度取得了突破。付出是有回报的,经过多年不懈的努力,中国的科研人员已经取得了两点式光学测量及光学测量技术的成功。

值得高兴的是,近期又传出了一些重大的好消息,其中北京大学在光学透镜方面做出了重大的贡献。

据《半导体学报》杂志上的一则消息,北大电子学所高鹏课题组已经取得了对其进行深入研究和研究的重大进展。值得一提的是,该技术也入选2023年中国最具影响力的十大科技成果之一!

据有关人士介绍,北京大学在这方面取得的新进展,相对于德国蔡司的常规光谱仪,无论在准确性还是在柔性方面,都有较大的提高,具有广阔的使用前景和广阔的市场前景。也就是说,我们不但在极紫外-可见光透镜制程上取得了重大的进展,同时也赶上了蔡司的脚步。

这也代表着,国内光刻装备的技术,终于有了一个圆满的进展,剩下的只是技术上的成熟和商业化,以及在光刻机厂商和集成商的不断测试和优化中,最终实现真正意义上的国产euv光刻机。

然而,就在这个节骨眼上,荷兰的光刻机巨人asml,却忽然“卷土重来”,对国产光刻机企业造成了巨大的冲击。

根据2月12日的消息,asml公司发布了一份公告,指控公司在美国本土**光刻设备,侵害了公司的智慧财产。并通告某些用户,即日起终止所有与其有关的商业合作。简而言之,asml相信中国企业侵权了它的光刻技术,并呼吁消费者终止和它的商业伙伴关系。

但事实却是,asml拿不出任何中国企业侵权的依据,原因很荒谬:因为东方晶源和一家叫做xtal的企业存在着密切的联系,而xtal在2016已经证实了asml公司的专利权,所以认定该公司存在侵权行为,所以认定了东方晶源涉嫌侵权。

应该注意到xtal公司很久以前就已经倒闭了。因此,很容易推测,asml公司被指控侵犯中国公司,完全没有任何理由,只是一种臆想,便宣称与其终止了业务,而完全无视了光刻行业的发展,从而引发了一系列的负面效应,这样的做法,实在是太不理智了。

对于这一点,很多行业人士都在问,asml真的是一个很好的解决方案吗?

理由很明显,对于asml来说,大陆根本没有足够的euv光刻技术可以免费出口,而当国内先进制程装备完全国产后,将会被淘汰出局;更重要的是,随着中国光刻技术的推广,asml在全球的占有率将受到很大的冲击。

东方晶源是我国光刻领域的龙头公司,专注于光刻装备与装备的研发,是中国高端光刻装备及高端芯片国产化进程中必不可少的环节。这大概就是为什么asml会忽然拿出一项专利,将国产光刻机制造商给"难倒"了。

正襟危坐"地面对asml公司的侵犯行为,并未就此退却,反而发布了一份公告,声称asml公司的起诉没有任何意义,也存在着不正当性,未来仍将为此负责。

然而,我们仍须提防的是,asml公司近两年来,已向美国大陆集中提交3000多件光刻技术的专利,并于今年七月受邀赴美。

也就是说,美国很有可能会通过3000多台光刻机的技术,在中国制造出一道障碍,破坏我国的光刻机产业,这也是很多欧美企业和公司为了打击其竞争对手而采取的一种策略。一旦对手不履行协议,就算我们能攻克euv光刻机,也难以应用到实际应用中去。

不过这个方法还是有的,等我们掌握了更多具有国际影响的光刻技术后,再进行交叉许可也不是不可能,只是要让我们的技术人员多花点心思,多花点心思。

尽管困难,但是“千磨万击,必摧之”,而且现在的中国已经和一百多年以前的贫穷落后相比,我们有充分的信心,中国的科学技术一定能够克服困难,走向复兴!

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