高精度光刻机迎来新进展，ASML态度转变

高精度光刻机迎来新进展，asml态度转变。

荷兰光刻机巨人asml，是世界上最大的高端集成电路厂商。早在三年之前，中芯就已经从asml公司订购了euv光刻机，想要进入到高端的半导体芯片生产领域，但是因为美国方面的干扰，一直未能成功。

尤其是最近几年，美**针对国产高科技企业的压力越来越大，让我们意识到了光刻的重要意义，也是我们最大的障碍。

没想到asml公司在给中国浇了一盆凉水后，还谦逊地说：就算euv光刻机的设计图打开了，我们也造不出来。

asml的信心是有的，甚至吴汉明院士也持同样的看法，他在「五」时曾表示：「一亿二千万美金的euv光刻机，是全世界的科技集中，不但包含美国百分之二十七的光源科技，更包含瑞士cnc加工中心、德国光学镜头等，高精度元件逾十万，单凭一家公司，实在难以发展壮大。

但是，在老"拼死一搏"的姿态下，国内的晶片工业怎能"难退缩"，无论多困难，都要把装备搞到手。euv光刻机，终究只是一台人工制造出来的，而非上帝创造出来的。外国都能做到，我们就一定可以做到。

值得高兴的是，中科院、清华北大等前沿研究单位对国内高精度光刻设备的研究已经初见成效，三个核心科技已经被攻克。

首先，北京华卓科技股份***成功地突破了美国asml公司对双台面设备的市场垄断，从而使其成为世界上第二个拥有这种设备的企业。

其次，清华大学汤传祥院士带领的课题组在一季度证实了一种以ssmb理论为基础，工作在thz至甚紫外线（euv）波段的"稳态微束"。

最近，各大**纷纷报导国产科学技术又一次打破僵局的喜悦。中国科学院自行研制的国内第一套国内高能量同步辐射光源实验设备，已经开始调试调试，已经进行了70%的调试。这是目前全球最明亮的四代照明设备。

本装置是为研制开发光学镜头而设计的。另外，中科科美技术股份***的直线laue镜头涂层设备及纳米焦点反射镜涂层设备也已经在这里落户。

因此，euv光刻技术的国产化指日可待。

asml大概也没料到事情会发展的如此之快，眼看着中国光刻的蓬勃发展，却像是被人当头浇了一瓢凉水，一下子就清醒了过来。

asml总裁彼得曾在公共场合说：我们非常荣幸能够在中国方面为中国加速建立完整的半导体工业链而贡献自己的力量，同时也非常乐意在将来加强与中方的交流。不仅如此，asml还对老美提出了一个警示：如果不切断芯片**，中国三年后就能突破euv光刻机的封锁，最后吃亏的还是美国的出口业。

这种突然出现的"转机"的确让人感到意外，但是这并不意味着asml真的希望与我们成为朋友，而是仅仅出于对市场的兴趣。只要回顾一下这两年来向我们**的57套光刻仪器，就知道这些都是些二手货，根本不可能用得上euv光刻机。

外国公司的风格是：“对强者赞美，对弱者践踏”。

所以，在"中国芯"遇到发展瓶颈的时候，我们一定要提高对那些"走狗"与"朋友"的戒心，绝不能因外部环境的改变，就松懈了对自己的开发与开发。中国在发展过程中，不断地向世人展示着：只有自己，才能成为一个大国！