国产新一代光刻机成功落地，ASML的计划是否泡汤？

国产新一代光刻机成功落地，asml的计划是否泡汤？

由于华为这样的中国公司被美国的传统生产工艺所阻断，世界上的芯片市场已经出现了一种微妙的变化，芯片的供给越来越紧张，以至于整个半导体行业都很难保持平衡。

无可救药。再加上台积电，三星，高通等一众光刻芯片巨头，也都向asml发出了订单，而asml这个老牌光刻设备公司，自然也是蠢蠢欲动，一方面是美国一直以来对euv光刻机的垄断，另一方面，也是国内对光刻机技术的研究与创新。

asml更害怕的是，最近几年在中国的投资也会跟着崩盘，而不是完全丧失中国的市场。

因此，在过去一年里，asml已经在中国进行了4次展示。然而令人愤怒的是，asml并没有为我们提供什么，甚至连我们所需的高档光刻设备都没有做到。在此背景下，我国的一些学者也纷纷表示，放弃一切对外部世界的希望，专心于科研，是打破现状的惟一出路。

然而令人意外的是，就在不久前，asml公司的ceo彼得先生，却是对华为进行了全面的制裁，并且向美国提出了反对。这是历史上首次全面"站队"表明立场。

无论asml这次是真心还是假意，但可以确定的一点是，在我们的市场中，他们真的没有任何的机会。

国内的光刻机，终于在这里诞生了。

最近，国产光刻机传来好消息，上海微电子公司研制的下一代光刻设备，已经通过了相关的工艺验证与检测，已经达到了可以投入使用的基础，有望在今年年底之前实现商业应用。

据悉，此款国内生产的euv光刻设备，可达到28nm的**精度，达到了与duv相同的水平。

台积电虽然没有euv光刻机，但还是通过两次**技术，利用深紫外光刻机，实现了7纳米芯片的批量生产，而英特尔则利用深紫外光刻机，实现了10纳米芯片的生产。这也就意味着，国内28纳米的euv光刻技术，已经具备了从28纳米开始，由低端制程到7纳米的技术跨越。

一再发出善意的asml已经不是独领**了。值得一提的是，过去两年来，上海微已经占据了国产光刻机的80%以上，如果asml不能引进最尖端的euv光刻机，就没有和我们进行协商的本钱。

asml项目不成功？

很明显，asml公司无法冒险将euv光刻机卖给我们，违背了美国旧有的出口控制规定，这是他们唯一能够做的事情，那就是破坏中国的市场。此外，我们最近几年的营销规划也告吹了。

asml公司是以中国自己的技术中心，进行自己的微影装备开发，这是常有的事，先是其总部位于深圳的研究所，以高额薪水从中国招募光刻工程人员；此外，asml公司还在国内进行了一系列光刻技术的注册，仅两年时间就有2900余件。

这是要干嘛？他们这是想要让我们这些光刻专业人士，去申请他们的专利，从而拖累我们的光刻技术？或者说，他想要变得更强？

而且，最重要的是，一旦asml拿到了这项技术，未来国产光刻装置也必须要获得该技术的许可。

我必须承认，asml的这个方案是非常坚决的，一旦这个项目得以实现，光刻技术方面的技术障碍将会在今后数年乃至数十年内持续存在。

可惜，国内的光刻机厂商早有准备，在开发的时候就已经将相关的专利给注册了，这样一来，我们就不用这么被动了，如果实在不行，我们完全可以通过互相授权的方式，来脱离asml的掌控。

如今，由于asml以及美国本土的"失宠"，这一方案很有可能会失败。

概要。但是，在这样的形势下，我们的确需要更加小心，尤其是要对那些重要的专家和专家进行保护！"“人才”是最重要的科学技术能力，相对于装备和工艺，国内半导体产业的兴起，更多的是缺乏人才。

所以，接下来，我们不但要加强对本土人才的培训，还要将"流失"的人才抢回去！